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BOREAL PLASMAS - Sources micro-onde - Plasma Froid
http://www.borealplasma.com/Plasma_par_micro-ondes-Texte/article/47
L'activité de Boréal Plasmas. La technologie Plasma par micro-ondes. Lénergie du plasma. Est apportée par des sources micro-ondes comparables à celles utilisées dans les fours domestiques. En collaboration avec les équipes de recherche du CNRS. BORÉAL Plasmas a développé les premières sources. Ces sources utilisent le principe de la résonance cyclotronique électronique. RCE ou DECR en anglais). Des éléments unitaires appelés applicateurs magnétiques micro-ondes. Vus au travers dun hublot en verre,.
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http://www.borealplasma.com/Contraintes_industrielles/article/51
L'activité de Boréal Plasmas. De lutilisation du plasma froid. Ces sources de plasma se montent aisément sur la plupart des machines de dépôt. Que ce soit de pulvérisation, dévaporation ou de CVD. Ces techniques sont compatibles avec des procédés de flux par défilement ou en rotation et donc dans des processus industriels. Gamme de Pression étendue. Le savoir-faire du travail sous vide est aujourdhui totalement maîtrisé. Large gamme de procédés applicables. 38800 Le Pont-de-Claix - Tél. 04 75 71 22 78.
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http://www.borealplasma.com/Conseil_et_uOtudes/page/31
L'activité de Boréal Plasmas. Le conseil, la fabrication et les essais. Boréal Plasmas définit les solutions possibles. En fonction des propriétés des surfaces attendues et apporte ses conseils pour aider au choix des meilleures solutions techniques et économiques. Les essais de résultat. Pour qualifier les propriétés de surface à obtenir. Boréal Plasmas réalise fréquemment dans son laboratoire les essais de traitements préconisés. Les études et la fabrication. Bull; Pour les applications industrielles.
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http://www.borealplasma.com/Chimiques_et_Physiques/page/27
L'activité de Boréal Plasmas. Pour traitements chimiques (CVD et PACVD). La CVD ou Chemical Vapor Deposition. La CVD est une technique de dépôt de couche mince. Agrave; partir de réactifs gazeux. Classiquement, le constituant à déposer est introduit dans le réacteur sous forme gazeuse. La molécule porteuse est cassée par élévation de la température (de 800°C à plus de 1200°C). La voie chimique est utilisée pour la gravure, le nettoyage, la passivation ou des dépôts. Pour traitements physiques (PVD).
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http://www.borealplasma.com/Les_domaines_d_activitui_de_BORuOAL_Plasmas-Textes/article/63
L'activité de Boréal Plasmas. Les domaines d’activité de Boréal Plasmas. Bull; La mécanique,. Qui, avec loptique, est le cœur de métier du groupe HEF). Bull; Loptique,. Bull; Le photovoltaïque,. Bull; Le textile,. Bull; Les polymères,. Bull; Les composants magnétiques,. Bull; Les filtres et organes de dépollution…. 38800 Le Pont-de-Claix - Tél. 04 75 71 22 78. Fax 04 76 71 68 11.
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http://www.borealplasma.com/Duipollution_et_stuirilisation/page/38
L'activité de Boréal Plasmas. Autres applications des Plasmas micros-onde. Le plasma froid généré par des micro-ondes permet de casser les liaisons de covalence des molécules. Et donc de les transformer. Cette technologie peut donc trouver dautres application que le traitement des surfaces. Quelques exemples d’applications:. Dépollution des gaz. La réduction des effluents gazeux toxiques. Le secteur médical est intéressé. Par ces opérations de stérilisation:. Fax 04 76 71 68 11.
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http://www.borealplasmas.com/Plasma_par_micro-ondes-Texte/article/47
L'activité de Boréal Plasmas. La technologie Plasma par micro-ondes. Lénergie du plasma. Est apportée par des sources micro-ondes comparables à celles utilisées dans les fours domestiques. En collaboration avec les équipes de recherche du CNRS. BORÉAL Plasmas a développé les premières sources. Ces sources utilisent le principe de la résonance cyclotronique électronique. RCE ou DECR en anglais). Des éléments unitaires appelés applicateurs magnétiques micro-ondes. Vus au travers dun hublot en verre,.
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http://www.borealplasma.com/Qualitui_et_rendement/article/50
L'activité de Boréal Plasmas. Qualité obtenue et rendement. Mise au point du procédé aisée. Les paramètres de linteraction plasma/surface sont indépendants les uns des autres. Ce qui facilite la mise au point des procédés. Qualité et densité de couches améliorées. Les paramètres daction sur le procédé sont nombreux et indépendants ce qui permet un excellent contrôle de la qualité et des caractéristiques des dépôts. Uniformité dépaisseur. Voir les exemples de résultat ici. Fax 04 76 71 68 11.
