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光刻掩膜版-南京清微电子科技有限公司 公司简介南京清微电子科技公司成立于2005年10月。主要提供中低档光刻掩膜版的技术咨询、数据处理、掩膜版定制等业务。服务对象主要是大学、研究所、以及需要使用掩膜版的中小企业。公司理念:客户的成功即是我们的成功！
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南京清微电子科技公司成立于2005年10月。主要提供中低档光刻掩膜版的技术咨询、数据处理、掩膜版定制等业务。服务对象主要是大学、研究所、以及需要使用掩膜版的中小企业。公司理念:客户的成功即是我们的成功！
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南京清微电子科技公司成立于2005年10月。主要提供中低档光刻掩膜版的技术咨询、数据处理、掩膜版定制等业务。服务对象主要是大学、研究所、以及需要使用掩膜版的中小企业。公司理念:客户的成功即是我们的成功！
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清微产品_南京清微电子科技有限公司_产品介绍
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Nanjing Microclear Electronics Technology Co. Ltd. 对一般的掩膜版，作为基础价格, 2.5"版约600元/块, 4"版约800元/块, 5"版约1000元/块。
南京清微电子科技有限公司 联系我们
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Nanjing Microclear Electronics Technology Co. Ltd. 南京清微电子科技有限责任公司 掩膜工厂地址 江苏省丹阳市开发区九曲路，路巷工业园G楼 联系人 李先生 13357773770 电话 0511 88066930 E mail: microclear@163.com.
南京清微电子科技有限公司 业务流程
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Nanjing Microclear Electronics Technology Co. Ltd.
南京清微电子科技有限公司 技术文档
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Nanjing Microclear Electronics Technology Co. Ltd. 光刻掩膜版主要用于半导体制造中的光刻工艺,通过光学曝光, 将掩膜版上的图形转移到硅片上,以便在硅片上进行选择性掺杂, 互连, 从而制成半导体器件和集成电路。 匀胶铬版是通过在高洁净度、高平整度的苏打玻璃或石英玻璃上,镀上一层铬,铬上再覆盖一层防反射(AR: anti-reflective)物质, 最上面涂覆一层感光胶制作而成的. 下面为可以在XY方向自由运动的工作台,待曝光的铬版置于工作台上,中间是由两组刀片(每组两片)构成的Aperture,其开口大小可以由刀片的运动来控制。 若要在铬版上曝光一个任意多边形, 只需将此多边形用矩形块精确覆盖, 曝光这些矩形块即可。 由此可知,使用光学图形发生器制作掩膜版的流程是,首先将设计版图上的所有几何图形用多边形来逼近,然后将多边形分割成矩形块(即用矩形块来精确覆盖多边形),再将这些矩形块信息输入给图形发生器控制端,最后由图形发生器通过选择性曝光而在铬版的感光胶上形成所需版图图形, 再通过显影、腐蚀、去胶而完成制版.
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光刻掩膜版-南京清微电子科技有限公司 公司简介
Nanjing Microclear Electronics Technology Co. Ltd. 2010年，为满足日益增加的用户需求，清微电子自建厂房，在江苏省丹阳市开发区建设500平米百级洁净厂房, 恒温车间温度偏差 0.5摄氏度，为生产高品质掩膜版打下坚实的基础。 3、德国Leica公司的Leitz MVG 7X7 mask comparator显微套准检验仪. 2) 2007 年2月,公司制版生产线投产.
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