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ニッタ・ハース株式会社半導体デバイスのCMPプロセスやシリコンウェーハ、LCDガラス基板、ハードディスク等の研磨消耗材（研磨パッド、スラリー等）の開発・製造・販売を行っています。
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Nano tech 2017 出展のご案内. Sapphire substrate's application such as LED and cover glass will be expanded year by yea .続きを見る. In recent years, further improvement in planarization at Tungsten (W) Chemical Mechanical .続きを見る. 半導体デバイスの微細化 多層化が進むにつれて CMP(Chemical Mechanical Polishing)は半導体プ .続きを見る. 2017 Nitta Haas Incorporated. All Right Reserved.
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New Technical Info was Released. Nitta Haas Received Partner Vendor Award from CoorsTek. Paper on The Elastic Impact of Polishing Pad for Sapphire presented at ICPT2015. We offer a various type of pads and slurries for Stock, Intermediate and Final polishing. We handle a wide range of products which can be used for GaN and sapphire polishing. We are introducing pads and slurries used for polishing of glass substrates for displays. High Removal Rate Pad in . The Elastic Impact of Pol.
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1 背景 近年、半導体デバイスの微細化により、ディフェクト性能の向上がより強く求められてい .続きを見る. Abstract The demand of LiTaO3 (LT) wafer mainly used as substrate of SAW (Surface Acousti .続きを見る. Sapphire substrate's application such as LED and cover glass will be expanded year by yea .続きを見る. 2018 Nitta Haas Incorporated. All Right Reserved.
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